说起芯片，大家都知道光刻机是芯片制造中的关键设备，而荷兰的ASML是光刻机的龙头企业，垄断了中高端光刻机80%以上的市场，至于国内的光刻机较之ASML则差得远了。

所以大家一说中国芯要发展，光刻机的问题是要解决的。事实上目前国内在光刻机方面，已经买到了ASML的最新光刻机，这一方面不用太担心了。

比如中芯国际从ASML采购了一台EUV极紫外线光刻机，可用于生产7nm的芯片。而华虹半导体从ASML采购了一台193nm双级沉浸式光刻机，可用于生产14-20nm的NAND闪存芯片。

但是大家知道么，ASML之所以能够在光刻机领域垄断全球，处于目前的地位，背后一位华为功不可没，要不是这位华为提供的技术，说不定ASML就未必有今天的成就。

这位华人就是林本坚，越南人，他曾在IBM工作，后面来到台积电工作。

在他之前，光刻机采用的是干式的，以空气为介质，而IBM提想用光做为介质，而在台积电工作的林本坚在2006年左右则提出应该以水为介质，做浸润式的光刻机。

当时ASML只是个落后的小厂，尼康、佳能是大厂采用的是干式光刻机，而ASML没办法，跟着台积电的步子去生产浸润式的光刻机。

谁知道这个关键节点被踩准了，2007年ASML推出了193nm光源的浸没式系统，在原有光源与镜头的条件下，能显著提升蚀刻精度，一举垄断了市场，最后尼康、佳能等由于没跟上步伐，慢慢的在光刻机领域均落后于ASML。

现在回过头来看，从2007年开始到现在，基本上所有的芯片都是采用浸没式光刻系统制造的，后续虽然刻录机发展为EUV极紫光刻机，但也是以浸没式光学技术为基础来的。

所以说林本坚真的是ASML背后的大功臣，而ASML也是在落后的情况下一赌，就赌成功了，否则哪会有今天的地位，至于尼康、佳能等赌错了方向，自然也就没落了。