溅射镀膜技术相较于其它镀膜技术，其膜质性能有很大的优势：它拥有更高的密度、较高的折射率、更高的硬度、更低的膜表面粗糙度。对于溅射膜的应用类型，一般是通过其薄膜功能进行分类的。通常可为分电气、磁学、光学、机械、化学和装饰等几大类，接下来了解该镀膜技术的应用分类及其对应的材料选择：

1、IC半导体元件的应用：

用于电极、引线，所用材料为：铝及铝合金、Ti、Pt、Au、Mo-Si、TiW；

用于镀制绝缘涂层、表面钝化膜，所用材料为：SiO₂、Si₃N₄、Al₂O₃。

2、显示元件的应用：

用于镀制透明导电膜，所用材料为：In₂O₃、SnO₂；

用于镀制光色膜，所用材料为：WO₃；

用于镀制绝缘涂层、表面钝化膜，所用材料为：SiO₂。

3、磁记录的应用：

用于镀制软磁性膜，所用材料为：Fe-Ni、Fe-Si-Al、Ni-Fe-Mo、Mn-Zn、Ni-Zn；

用于镀制电硬磁性膜，所用材料为：Y-Fe₂O₃、Co、Co-Cr、Mn-Bi、Mn-AI-Ge；

用于镀制磁头缝隙材料，绝缘层，所用材料为：Cr、SiO₂、玻璃；

用于特殊材料中，所用材料为：过渡金属和稀土类的合金。

4、约瑟夫森元件的应用：

用于镀制超导膜，所用材料为：Nb、Nb-Ge；

用于镀制绝缘膜，所用材料为：SiO₂。

5、光电子学的应用：

用于光IC镀膜，所用材料为各种玻璃。

6、其它电子元件的应用：

用于镀制电阻薄膜，所用材料为：Ta、Ta-N、Ta-Si、Ni-Cr；

用于印刷机薄膜热写头，所用材料为：Ta-N、SiO₂、Ni-Cr、Au、Ta₂O₅、SiC、Ta-Si、Ta-SiO₂、Cr-SiO₂；

用于镀制压电薄膜，所用材料为：ZnO、PZT、BaTiO₃、LiNbO₃；

用于镀制电极引线，所用材料为：Al、Cr、Au、Ni-Cr、Pb、Cu。

7、太阳能的应用：

用于太阳能电池镀膜，所用材料为：Si、Ag、Ti、In₂O₃；

用于镀制选择吸收膜，所用材料为：金属碳化物；

用于镀制选择反射膜，所用材料为：In₂O₃。

8、光学的应用

用于镀制反射镜镀膜，所用材料为：Al、Ag、Cu、Au；

用于镀制光栅镀膜，所用材料为：Cr。

9、机械、化学的应用：

用于镀制润滑膜，所用材料为：MoS₂、Ag、Cu、Au、Pb、Cu-Au、Pb-Sn；

用于镀制耐磨损膜，所用材料为：Cr、Pt、Ta、CrN、CrC、TiN、TiC、HfN；

用于镀制耐腐蚀膜，所用材料为：Cr、Ta、CrN、CrC、TiN、TiC等；

用于镀制耐热膜，所用材料为：Al、W、Ti、Ta、Mo、Co-Cr-Al系合金。

10、塑料工业的应用：

用于镀制塑料装饰、硬化膜，所用材料为：Cr、Al、Ag、TiN。

随着现今科学技术的快速发展，溅射膜在诸多领域当中的应用均成为可能。溅射镀膜机常用于溅镀建筑玻璃上的低辐射率膜层、日光控制的玻璃上的膜层、大型玻璃板上的溅射抗反射膜层、平板显示器膜层、太阳能电池用透明导电膜层、零件和工具的摩擦膜层、传感器和精密光学用膜层等。如今，使用溅镀工艺已经成为镀膜行业中的一种标配。