金融界 2025 年 5 月 10 日消息，国家知识产权局信息显示，SK 恩普士有限公司申请一项名为“抛光垫及使用其制造半导体器件的方法”的专利，公开号 CN119927785A，申请日期为 2024 年 11 月。

专利摘要显示，根据一实施方式，抛光垫可在特定频率范围内减少噪音和振动。因此，抛光垫具有优良的吸音特性，因其根据方程式 1 在 500Hz 至 4,000Hz 的频率测得的最大吸音系数满足 0.1 以上。因此，由于其能够尽量减少在 CMP 抛光工艺中由于热能或振动能引起的能量损失，其具有优异的抛光速率。