4 月 5 日，原子层沉积（ALD）薄膜涂层技术供应商Picosun在官网发文称，在台湾地区阳明交大开展的Micro LED研究中，Picosun原子层沉积 (ALD) 技术在增强Micro LED的电光特性方面发挥了至关重要的作用，助力Micro LED外量子效率进一步提升与实现全彩化显示。

Picosun表示，使用介电膜作为钝化材料是抑制悬空键以及提高 LED 输出功率和外部量子效率的常用技术。在 NYCU 进行的这项研究比较了不同尺寸的 III-Nitride micro-LED 有和没有 ALD Al2O3 钝化。结果表明，当使用 ALD Al2O3 钝化时，5 µm × 5 µm micro-LED 的外部量子效率提高了 70%，而 10 µm ×10 µm micro-LED 的外部量子效率提高了 60%。

此外，为实现全彩色显示，纽约大学开发了一种自动图案化量子点的喷墨打印技术。该方案可以显着提高彩色像素的精度，满足高分辨率要求。Picosun ALD钝化技术成功用于防止量子点的光氧化和降解。经过 500 小时的环境可靠性测试，色域保持在极好的水平。

“Micro-LED 技术一直是下一代显示器的颠覆性技术，更多的应用领域正在涌现其长寿命、高功率效率和高亮度等优点。借助基于量子点的技术，微型 LED 可用于虚拟和混合现实等应用，因为它们允许使用单色、蓝色、微型 LED 芯片，从而降低制造成本。我们的研究证明，ALD 钝化在即将到来的纳米级器件中发挥着关键作用”，纽约大学教授Hao-Chung Kuo说。

“Picosun 的 ALD 技术已在许多知名 LED 制造商中得到生产验证。ALD 薄膜卓越的保形性和均匀性，以及即使在极低薄膜厚度下也能确保可靠、无针孔封装的能力是一项关键优势。此外，ALD 工艺可以在中等温度下运行”，Picosun 集团工业业务领域副总裁Juhana Kostamo解释道。