ASM IP 申请用于区域选择性沉积的改进的聚合物抑制剂专利,能在衬底上选择性地形成膜

金融界 2025 年 5 月 6 日消息,国家知识产权局信息显示,ASM IP 私人控股有限公司申请一项名为“用于区域选择性沉积的改进的聚合物抑制剂”的专利,公开号 CN119913498A,申请日期为 2024 年 10 月。

专利摘要显示,公开了用于在衬底上形成钝化层的方法和设备,包括:在反应室中提供衬底,衬底包括第一表面和第二表面;使衬底与包含胺化合物的第一前体接触,胺化合物包含至少两个胺基;以及使衬底与包含至少一种硫代酸酐的第二前体接触,其中,使衬底与第一和第二前体接触相对于第二表面在第一表面上选择性地形成膜。

打开APP阅读更多精彩内容