1.美光今年将在日本生产尖端的“1 beta”存储芯片

2.罗姆在印度开设全新全球应用中心

3.村田制作所6月起在越南扩建新的生产大楼‍

1.美光今年将在日本生产尖端的“1 beta”存储芯片

集微网消息，日经亚洲评论6月11日报道，美国存储器大厂美光将在今年下半年于日本量产“1-beta”制程的次世代DRAM。

美光执行副总裁兼事业长Sumit Sadana指出，美光正在与日本政府和商业伙伴协调，今年下半年在日本广岛新厂量产“1-beta”制程的次世代DRAM。

图源：日经亚洲

Sadana提到，美光在日本生产先进DRAM有很多积极因素，好比成熟的半导体产业和广岛人才库，美光有意持续在日本制造先进DRAM。

1α制程DRAM的存储器容量较前一代（1z制程）提高40%，推出时震撼业界，未来存储器创新奠定绝佳基础，而1beta是1alpha的改良版。

美光研发部在美国，制造基地主要在中国台湾地区和日本广岛。 目前美光正积极在日本扩建DRAM新厂，投资总额预估达6000亿至8000亿日元，预期日本政府将提供资金援助，未来十年在全球投资1500亿美元。

此外，美光周五首度开放媒体参观台中A3新厂，中国台湾地区美光新任董事长卢东晖表示，下半年会将EUV机台引入A3厂区，研发走廊，并在未来2至3年增聘2000名员工，加码投资中国台湾地区。

卢东晖表示，他上任的优先目标之一是加快1beta与1gamma制程的投产和量产，目前A3厂区已量产1alpha制程DRAM，1beta制程预计明年量产，1gamma则要等到2024年。

美光看好云端需求及汽车芯片应用，存储器芯片未来需求长期看多，旗下DRAM及NAND快闪存储器后市前景极佳。（校对/思坦）

2.罗姆在印度开设全新全球应用中心

集微网消息，罗姆在印度Bagmane 科技园区开设了最新的全球应用中心(GAC)。该中心专注于开发参考设计，并将支持罗姆在印度的全球运营。考虑到印度拥有的优秀工程师、技术和合作伙伴生态系统，罗姆决定投资该中心。

GAC成立于2021年年中。除了目前的LSI开发部门、应用工程部门、电力晶体管研发部门和销售和市场部门，罗姆计划通过雇佣几十名电力电子工程师和扩大实验室来满足超过10kW的应用，投资于这个新的中心。

罗姆在新闻稿中表示，GAC将致力于各种应用程序和构建拓扑，例如高功率系统拓扑参考设计，以最大限度地提高尖端SiC功率器件的性能。此外，GAC计划开发数据中心、基站的电源参考设计，以及电动汽车车载充电器和充电站的参考设计。(校对/隐德莱希)

3.村田制作所6月起在越南扩建新的生产大楼

集微网消息，村田制作所越南制造子公司将于2022年6月开始建设新的生产大楼。村田表示，有了新的生产大楼，中长期来看，将能够满足汽车和电子设备对电感线圈日益增长的需求。

据Evertiq报道，村田目前预计将在2023年8月完成建设，仅建筑费用就投入了约43.2亿日元（约合3040万欧元）。一旦完工，村田制作所越南子公司将获得22,637平方米的新建筑面积。（校对/隐德来希）