设备 | 韩国EUV专家:中国的EUV设备开发在未来10~15年内不可能

CINNO Research产业资讯,去年以来,中美矛盾的核心是“半导体设备出口管制”。美国政府的方针是不要将制造尖端半导体的设备和技术卖给中国及中国的企业。

根据韩媒Thelec报道,美国监管中国出口的半导体设备中,最引入注目的是EUV(极紫外线)设备。因为EUV设备对于极微半导体制造工艺至关重要。对于EUV设备出口管制,荷兰政府和ASML表示反对,称“如果需要的话,也会把设备卖给中国”。也有外媒报道称,中国开始开发自己的EUV设备。

汉阳大学新材料工程系教授安镇浩

中国能否成功开发出EUV设备?另外,EUV生态系统正式爆发的时间是什么时候?从被誉为韩国EUV最高专家的汉阳大学新材料工程系教授安振浩那里,我们可以了解到相关展望和预测。

今年2019年,安教授主导成立韩国首个EUV相关产学合作中心—EUN-IUCC(极紫外线产学合作研究中心)。最近,他以该中心为基础,主导成立了汉阳智能半导体研究院(HY-ISS),负责整个半导体工艺的研发,并担任首任院长。

安镇浩教授斩钉截铁地说:“面对美国的出口管制,中国开始研发EUV设备,但不可能在短期内开发成功。”他说:“EUV的技术难度很高,连日本都放弃了。10年、15年后,(中国成功开发EUV设备)将是不可能的。”

安教授接着评价称:“High-NA EUV设备能够实际应用于量产的时间将是2026年”,“High-NA EUV设备价格高达每台5000亿韩元(约26.5亿人民币),虽然很贵,但要想稳定高效运营精细工艺,转型是必须的。”

围绕半导体工艺的周边生态系统也强调要为向High-NA EUV时代过渡做好准备。安教授表示:“EUV的Lens数差越多,光源的功率越高,对光刻胶(PR)、掩膜版、防护膜(pellicle)等各个半导体材料、器件要求的规格也会更高。因此,需要提高耐久性,或者利用针对更细微电路实现优化的材料的方式等。”

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