金融界 2025 年 4 月 24 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 荷兰有限公司申请一项名为“延长 EUV 光刻系统中的光学元件的使用寿命”的专利，公开号 CN119805878A，申请日期为 2019 年 2 月。

专利摘要显示，通过气体到包含光学元件的真空室(26)中的受控引入，减少用于生成 EUV 辐射的系统(SO)中的一个或多个反射光学元件的反射率的劣化。该气体可以被添加到诸如氢气的另一气体流中，或者与氢自由基的引入交替。