日本先进逻辑半导体制造商 Rapidus 宣布，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 IIM-1 晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内首次引入量产用 EUV 光刻设备。

Rapidus 首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等相关人士出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新型号，能满足 Rapidus 首代量产工艺 2nm 的制造需求。该光刻机与 0.55 (High) NA EXE 平台共享部分组件，晶圆吞吐量较前款 NXE:3600D 提升 37.5%。

▲ ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机

除核心的 EUV 光刻机外，Rapidus 还将在 IIM-1 晶圆厂安装一系列配套先进半导体制造设备以及全自动材料处理系统，以实现 2nmz 制程 GAA（IT之家备注：全环绕栅极）结构半导体的生产。

Rapidus 再次确认 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月启动试产，且该晶圆厂所有半导体制造设备均将采用“单晶圆工艺”，Rapidus 将在该模式下构建名为 RUMS（快速和统一制造服务）的新型半导体代工模式。