中科潞安申请Si掺杂的AlN模板等相关专利 使获得的AlN模板具有良好的外观形貌

金融界2025年8月1日消息,国家知识产权局信息显示,山西中科潞安紫外光电科技有限公司申请一项名为“Si掺杂的AlN模板、制备方法及AlGaN基LED光源”的专利,公开号CN120400992A,申请日期为2025年06月。

专利摘要显示,本发明涉及一种Si掺杂的AlN模板、制备方法及AlGaN基LED光源,属于半导体材料外延生长技术领域。制备方法包括:采用磁控溅射工艺在蓝宝石衬底表面沉积非晶/微晶AlN层,作为后续外延生长的成核层;对成核层进行预处理;在预处理后的成核层上依次沉积AlN缓冲层和AlN过渡层;在AlN过渡层上沉积AlN高质量层;AlN缓冲层为单一浓度的Si掺杂层,AlN过渡层未进行Si掺杂,AlN高质量层为Si掺杂浓度分层变化的复合Si掺杂层。通过分阶段生长、Si掺杂分层设计的Si掺杂的AlN模板,可以使获得的AlN模板具有良好的外观形貌,可以维持低位错密度、低压应变、表面光滑性和高结晶质量。

天眼查资料显示,山西中科潞安紫外光电科技有限公司,成立于2018年,位于长治市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本41315.9166万人民币。通过天眼查大数据分析,山西中科潞安紫外光电科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目18次,财产线索方面有商标信息110条,专利信息306条,此外企业还拥有行政许可16个。

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