华海清科申请晶圆清洗装置等专利,提升晶圆清洗设备空间利用率

金融界2025年4月22日消息,国家知识产权局信息显示,华海清科(北京)科技有限公司申请一项名为“晶圆清洗装置、系统、方法和化学机械抛光设备”的专利,公开号CN119852209A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明提出了晶圆清洗装置、系统、方法和化学机械抛光设备。所述晶圆清洗装置包括:晶圆输送定位装置和晶圆旋转定位装置,晶圆输送定位装置的顶部高于晶圆旋转定位装置,晶圆输送定位装置和晶圆旋转定位装置集成为定位清洗单元;主轴旋转组件,主轴旋转组件连接在定位清洗单元的下方,用于驱动定位清洗单元旋转;以及升降组件,升降组件连接主轴旋转组件的下方,用于带动主轴旋转组件和定位清洗单元升降,利用主轴旋转组件升降的不同高度实现晶圆的输送定位和旋转定位。本发明的晶圆清洗装置集成了晶圆定位清洗单元和主轴旋转组件,具备晶圆输送定位和清洗功能,提升了晶圆清洗设备的空间利用率。

天眼查资料显示,华海清科(北京)科技有限公司,成立于2019年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析,华海清科(北京)科技有限公司参与招投标项目74次,专利信息86条,此外企业还拥有行政许可9个。

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