金融界 2025 年 4 月 19 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 荷兰有限公司;IMEC 非营利协会申请一项名为“3290.用于在光刻设备中使用的表膜和用于形成该表膜的方法”的专利，公开号 CN119856116A，申请日期为 2023 年 9 月。

专利摘要显示，一种用于在光刻设备中使用的表膜，所述表膜包括：隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及保护部分，所述保护部分在所述隔膜的至少一侧上位于所述第二部分处。一种用于形成用于在光刻设备中使用的表膜的方法，所述方法包括：提供隔膜，所述隔膜具有第一部分和第二部分；以及在所述隔膜的至少一侧上在所述第二部分处提供保护部分。