CINNO Research产业资讯，涉嫌将SK海力士半导体核心技术泄露给中国，并通过三星电子前任职员将设备图纸进行转移的SK海力士供应商17名高管和职员被韩国检察院起诉。

根据韩媒ET news报道，1月26日首尔中央支检营业机密泄露和信息通信犯罪部联手国家情报院将SK海力士供应商A公司的研究所长、营业Group长以违反产业技术保护法和防止不正当经营法（泄露营业机密至海外）的嫌疑进行了拘留并起诉。

同时检察院还将三星电子子公司Semes清洗设备图纸转出，并利用此开发出口中国的半导体设备的制程Group长和厂长、另一家供应商代表等3名以违反产业技术保护法的的嫌疑进行了拘留和起诉。同时将配合其进行违法活动的A公司高管和职员12名进行了非拘留起诉。

根据检察院，A公司将通过与SK海力士的合作中取得的HKMG(High K Metal Gate）半导体制造技术和营业机密在2018年8月到2020年6月期间泄露给了中国半导体竞争企业。

利用通过Semes前任职员秘密取得的超临界清洗设备图纸等半导体尖端技术和营业机密开发出出口中国的设备。据了解，此技术为10纳米级别DRAM半导体制造制程核心技术。