东微电子取得用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法专利

金融界2025年8月8日消息,国家知识产权局信息显示,河南东微电子装备有限公司取得一项名为“一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法”的专利,授权公告号CN119194386B,申请日期为2024年10月。

天眼查资料显示,河南东微电子装备有限公司,成立于2023年,位于郑州市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,河南东微电子装备有限公司参与招投标项目3次,专利信息7条,此外企业还拥有行政许可2个。

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