历经多年研发，国产高端半导体光刻胶树脂领域有了技术进展！近日，位于杭州湾上虞经开区的八亿时空上虞电子材料基地传来喜讯，该公司的高端半导体光刻胶树脂产线正式建成，这也是我国在光刻胶核心材料领域的首条百吨级高自动化生产线。项目达产后，预计营收规模超亿元，将为国产芯片“卡脖子”环节撕开一道关键突破口。

在半导体制造的复杂流程中，光刻胶处于核心地位，堪称半导体产业的“命门”，它就像是芯片制造过程中的“画笔”，能够将设计好的电路图案精准地复制到硅片上，为后续的刻蚀、离子注入等工序奠定基础。光刻胶的性能直接决定了芯片的制程精度、性能和良率。随着半导体技术不断朝着更小尺寸、更高性能发展，对光刻胶的要求也愈发严苛。

“光刻胶作为芯片制造核心材料，其上游关键原料光刻胶树脂约有九成多依赖进口，主要由日本和美国企业主导。”八亿时空相关负责人介绍，针对国产化进程中“研发缺料、量产断供”的双重挑战，此次同步建成的两条全自主设计的产线由八亿时空自主规划与设计，标志着国内企业正逐步补齐半导体材料体系中的关键一环，为推进光刻胶国产化奠定了基础。

双产线为高柔性研发中试线与高产能量产线，分别覆盖材料从研发、试产到量产的不同阶段需求。其中，高柔性研发中试线专为“小量多品种”的研发迭代设计，适用于光刻胶厂商与科研机构在小批量试制阶段对原材料的高品质、快速切换需求。该产线具备高度柔性、精密反应和后处理系统，能够实现配方快速切换，是推动国产材料加快走向应用的关键孵化平台。

另一条高产能量产线则面向已经完成验证、进入稳定量产阶段的产品，强调高效反应、稳定运行与一致性控制。该线配置大型反应系统及精制流程，生产过程实现高度自动化，可显著提升产品良率与批次稳定性，满足高端光刻胶在实际制程中对材料一致性的严苛要求。

从确定光刻胶树脂方向，到产线顺利建成，八亿时空光刻胶树脂业务进展迅速。对此，八亿时空董事长赵雷表示，半导体光刻胶树脂作为光刻胶的核心原料，基本被国外垄断，技术壁垒非常高，难度主要在树脂材料的分散度和纯度上。

“公司依据多年在化学合成、材料纯化、精益管理等方面的系统性优势及经验，自主培养了一支专业的光刻胶树脂研发团队，基于在液晶材料领域相关经验的积累及光刻胶核心工艺的摸索，聚焦KrF光刻胶关键原料PHS树脂及其衍生物的研发和量产。”赵雷说。

据介绍，八亿时空在分子结构设计、合成工艺控制、纯化技术等关键环节实现了系统性突破，成功开发出满足先进制程要求的高性能光刻胶树脂，性能参数达到国际先进水平。从研发导向到产线建设，从配方开发到工艺优化，八亿时空上虞电子材料基地已具备KrF光刻胶用树脂全系列的研发生产能力，并与多家头部光刻胶厂家合作，开发多款高性能树脂，正聚力打造覆盖光刻胶树脂全生命周期的技术与制造平台。

来源：上虞区融媒体中心 记者 成波